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产品介绍
VS-300T Astra-s SiN 是一款等离子体加强原子层沉积(PEALD)设备,聚焦高机能、多规格的氮化硅(SiN)介质薄膜精密沉积,利用于先进逻辑的金属栅极距离物侧墙、单扩散区隔离,以及存储位线侧墙、DRAM 位线填充等工艺,在片内均匀性、缺点节造、台阶覆盖率及沉积快率等方面达到国际先进水平。产品选取紧凑型架构,可搭载4个反映腔,拥有优异的坪效比和 CoO,满足逻辑、存储等客户先进技术节点要求。
产品特点
- 高质量 SiN 薄膜沉积能力
- 优异的片内均匀性
- 最多可搭载4个反映腔,满足高产能需要
- 优异的坪效比和 CoO
- 通过S2安全认证和F47尺度检验