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产品介绍

        PF-300T Altair TiN 是一款热型原子层沉积（Thermal ALD）设备
，聚焦高机能氮化钛（TiN）金属薄膜沉积
，可实现分歧温度、分歧厚度的 TiN 薄膜沉积
。产品在颗＝谠炷芰Α⒛ず窦暗缱杈刃浴⑸铄淇肀忍ń赘哺锹实确矫娲锏焦实毕人
。产品可搭载3个两站式反映腔
，产能高
，坪效迸着异
，已宽泛利用于先进逻辑、存储和封装等领域
。

产品特点
        - 高质量 TiN 薄膜沉积能力
        - 超深邃宽比结构台阶覆盖率可达90%以上
        - 优异的颗＝谠炷芰Α⒛ず窦暗缱杈刃
        - 可搭载3个两站式反映腔
，具备优异的产能和坪效比