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产品介绍

        PF-300T Plus PESAF 是一款次常压化学气相沉积（SACVD）设备，兼容 SACVD SiO?与 PETEOS 两种薄膜沉积工艺，聚焦先进造程中深邃宽比沟槽的介质填充。产品搭载 HF/LF 双频射频系统，具备优良的工艺适配性和缺点抑造能力；建设特殊加热卡盘，可不变处置翘曲度达500μm的晶圆。该产品是全国首款实现 PESAF 工艺量产利用的设备。

产品特点
        - 深邃宽比沟槽填充能力杰出
        - 兼容 SACVD SiO? 与 PETEOS 两种薄膜沉积工艺
        - 可不变处置翘曲度达500μm的晶圆
        - 可搭载双频射频系统