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产品介绍

        PF-300M Supra-D 是面向高尺度量产打造的新一代 PECVD 高端产品，基于串联式高产能平台，可搭载5个两站独立反映腔。腔体选取双腔分离设计，共同专属独立 RPS 系统，清洁效能与工艺不变性同步提升
；腔体幼型化设计进一步降低工艺气体亏损及 CoO。加热盘集成 Auto Leveling 自动找平职能，实时赔偿晶圆表表翘曲，薄膜不变性、均匀性、颗粒度阐发优异。设备可不变实现氧化硅/氮化硅叠层、OPN、SiB/SiBN、SiN、TEOS、ACHM 等多类高质量介质薄膜沉积，满足先进造程更严格的工艺指标和量产需要。平台可兼容 pX、PEALD Astra 等分歧工艺腔体，支持更多工艺组合和器件类型。

产品特点
        - 双腔分离设计提升工艺可控性，优异的颗＝谠旒氨∧ぞ刃
        - 专属独立 RPS 系统，大幅提升Clean效能和产能阐发
        - ?腔体幼型化进一步降低工艺气体亏损及 CoO
        - 串联式高产能平台，可搭配5个两站独立反映腔，实现产能的优化配置