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产品介绍

        NF-300H 是一款占有3个6站反映腔的高产能 PECVD 设备  ,是首款成功导入传感器 (CIS) 量产产线的国产沉积设备  ,重要利用于 CIS 和 HBM 的超厚介质填充。设备支持高温工艺, 可实现长功夫沉积需要的薄膜工艺  ,具备优良的颗  =谠炷芰  ,所沉积薄膜在均匀性和应力节造方面阐发优异  ,在量产产能、工艺不变性等多项关键指标上实现技术突破  ,达到国际同类设备先进水平。


产品特点
        - 适配沉积功夫需要长的薄膜工艺
        - 具备优良的颗  =谠旌陀α谠炷芰
        - 高产能平台能够同时搭载3个6站反映腔

 
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